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纳米白光干涉仪

系列类型:

加工功能:

机床精度:

产品特色:

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规格参数


型 号AE-100M
移动台(mm)平台尺寸100X100,行程13X13
物镜放大倍率10X20X50X
观察与量测范围(mm)0.43*0.320.21*0.160.088*0.066
光学分辨率(um)0.920.690.5
收光角度(Degrees)172333
工作距离(mm)7.44.73.4
传感器分辨率640X480像素
机台重量(kg)/载重(kg)20kg/小于1kg
Z轴移动范围45mm,手动细调
Z轴位置数字显示器分辨力1 um
倾斜调整平台双轴/手动调整

高度测量
测量范围100um (400um,选配)
量测分辨率0.1 nm
重复精度≦0.1%(量测高度:>10um)
≦10nm(量测高度:1um 10 um)
≦5nm(量测高度:<1um)
量测控制自动
扫描速度(um/s)12(最高)

光源
光源类型仪器用卤素(冷)光源
平均使用寿命1000小时(100W)            500小时(150W)
光强度调整自动/手动

数据处理与显示用计算机
中央处理运算单元双核心以上CPU
影像与数据显示屏幕19"液晶屏幕
操作系统Windows 7

电源与环境要求

电源:AC 100-240V 50/60HZ
环境振动VC-C等级以上

量测与分析软件
量测软件ImgScan量测软件:具VSI/PVSI/PSI量测模式(PSI量测模式需另选配PSI模块搭配) PostTopo分析软件“
分析软件ISO粗糙度/阶高分析,快速传利业转换和滤波,多样的2D和3D 观测视角圆,外形/面积/体积分析,图像缩放,标准影像文件格 式转换,报表输出,程序教导量测等。


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